紫外清洗機是一種廣泛應用于半導體行業(yè)的清洗設備，其主要作用是去除半導體器件表面的污染物，從而提高其表面的清潔度，并保證器件的正常工作。
 

　　紫外清洗機的操作步驟如下：
 

　　1、準備工作：首先需要將紫外清洗機準備好，包括清洗腔室、噴嘴、傾斜角度、紫外燈等，同時需要保證清洗機內無任何雜質。
 

　　2、選擇程序：根據(jù)需要清洗的半導體器件的類型和污染物的種類，選擇相應的清洗程序。
 

　　3、清洗之前：在開啟清洗程序之前，需要將半導體器件先清洗干凈。將器件置于去離子水中，輕輕地搓洗幾分鐘，然后用去離子水沖洗干凈。清洗后，應在紫外清洗機內進行清洗程序。
 

　　4、開啟清洗程序：啟動清洗程序，紫外燈將開始輻射。此時半導體器件將立即開始被清洗。
 

　　5、時間控制：清洗時需要控制時間，一般情況下，清洗時間在5~10分鐘左右。時間太短會導致清洗，時間過長則會浪費清洗機資源，增加清洗成本。
 

　　6、清洗結束：清洗結束后，需要將半導體器件取出并水洗干凈。用離子風或干氮將半導體器件吹干即可。
 

　　需要注意的是，紫外清洗機的操作步驟不僅僅是以上這些，具體操作方式還需要根據(jù)清洗機的不同型號和半導體器件的要求進行調整。同時，為了保證清洗的效果和安全，清洗機的操作人員應該具備一定的理論知識和實踐經驗，才能有效地操作清洗機。